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Products产品中心
在售十二大品类,分为微米级粉体(半导体与晶体材料专用)、氧化铝系(刚玉)、天然与非金属磨料、植物类磨料、抛光介质五组。其中片状氧化铝(PWA)、白刚玉(WA)、绿碳化硅(GC)、棕刚玉(A)为公司主力型号。每个品类页均含化学成分表、物理性能表与粒度规格表,下列指标为典型值,实际供货以随批次检测数据为准。
01 / 微米级粉体(半导体与晶体材料专用)
公司主力:片状氧化铝与绿碳化硅
这一组面向半导体、压电晶体、晶体陶瓷、磁性材料、精密陶瓷、特种金属与光学材料行业。共同点是按 D50 而非筛号交付、对划伤零容忍、依企业标准并对标 JIS 标准生产。
02 / 氧化铝系(电熔刚玉)
刚玉系五类
以铝矾土或工业氧化铝粉为原料,电弧炉 2000 °C 以上熔炼结晶后破碎、整形、磁选、筛分。莫氏硬度均在 8.5–9.0,差别在纯度、韧性与杂质构成。
03 / 天然与非金属磨料
石榴石砂与玻璃珠
硬度低于刚玉,但各有刚玉替代不了的场景:石榴石砂不含游离二氧化硅且密度高,玻璃珠是球形介质、不改变工件尺寸。
04 / 植物类磨料(研磨抛光耗材)
玉米芯与核桃壳
用于清理与抛光而非切削。共同特点是硬度低于常见金属基体,因此能在不损伤工件、不改变尺寸的前提下完成去毛刺、除漆与光饰。
05 / 抛光介质
抛光粉
亚微米至十微米级的精抛介质,按被抛材料选择:金属与蓝宝石用氧化铝,玻璃与光学件用氧化铈,不锈钢镜面用氧化铬。
横向对比
全品类一览表
硬度决定切削能力,韧性决定使用寿命,密度影响喷砂动能与单位耗量。先用这张表锁定材质,再进入对应产品页确定粒度。
| 品类 | 主成分 / 纯度 | 莫氏硬度 | 真密度 | 颜色 | 粒度范围 | 典型应用 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 片状氧化铝 PWA | Al2O3 99.72% | 9 | — | 近乎透明无色 | #240–#8000(按 D50) | 半导体硅片、压电晶体、LCD 基板研磨抛光 |
| 绿碳化硅 GC | SiC 99.26% | 9.5 | 3.20–3.25 g/cm³ | 绿 | GC800#–GC10000# | 硅片与石英芯片切割研磨、硬质合金、硅碳棒 |
| 棕刚玉 | Al2O3 94.5–97% | 9.0 | 3.90–4.00 g/cm³ | 棕褐 | F4–F2000 / W63–W0.5 / 段砂 | 喷砂、树脂磨具、耐火材料、地坪 |
| 白刚玉 | Al2O3 ≥99.0% | 9.0 | 3.90–3.95 g/cm³ | 白 | F4–F2000 / W63–W0.5 / 段砂 | 精密研磨抛光、无铁污染喷砂、耐火材料 |
| 单晶刚玉 | Al2O3 ≥98.5% | 9.0 | 3.90–3.95 g/cm³ | 淡黄至灰黄 | F14–F220 及微粉 | 不锈钢、高速钢、耐热合金磨削 |
| 铬刚玉 | Al2O3 ≥97.5% Cr2O3 0.15–2.0% | 9.0 | 3.90–3.95 g/cm³ | 粉红 / 玫红 | F12–F220 及微粉 | 量具与刀具刃磨、高光洁度磨削 |
| 黑刚玉 | Al2O3 75–85% | 8.5–9.0 | 3.80–3.95 g/cm³ | 黑 | F12–F220 及微粉 | 砂布砂纸、抛光膏原料、干磨 |
| 石榴石砂 | FeO 28–32% SiO2 36–40% | 7.5–8.0 | 3.9–4.1 g/cm³ | 红褐 | 20–120 目 / 0.6–1.2 mm | 水刀切割、低粉尘喷砂、水处理滤料 |
| 玻璃珠 | SiO2 65–72% | ≈6 | 2.4–2.5 g/cm³ | 无色透明 | 40–325 目 | 喷丸强化、去毛刺、哑光缎面 |
| 玉米芯磨料 | 植物纤维 | 4.0–4.5 | 容重 0.55–0.70 g/cm³ | 浅黄至棕黄 | 8–60 目 / 粉 60–200 目 | 滚磨光饰、脱水干燥、干抛 |
| 核桃壳磨料 | 植物纤维 | 3.0–4.0 | 容重 0.65–0.80 g/cm³ | 棕褐 | 6–80 目 | 除漆清洗、干式清理、钻井堵漏 |
| 抛光粉 | Al2O3 / CeO2 / Cr2O3 ≥99% | 8.5–9.0 | — | 白 / 浅黄 / 绿 | D50 0.3–10 μm | 金属精抛、玻璃与光学抛光、镜面研磨 |
表中密度一栏:刚玉、碳化硅与石榴石为真密度,植物类为容重(体积密度),两者不可直接比较。片状氧化铝按片状晶体供货,真密度不作为交付指标故列「—」。 粒度对照关系见 粒度对照与选型指南;微粉段的 D50 标准、W 号与国内外代号对照见 粒度标准与国内外代号对照。