为什么用片状氧化铝而不是常规微粉
常规磨料颗粒是等积型或球形,在研磨盘与工件之间滚动,压力集中在少数接触点上,棱角反复啃咬同一位置。片状氧化铝(PWA)的晶体是正六角平板状,运动时平行于工件表面滑动,研磨压力均匀分布在整个平板表面——颗粒破碎减少,随机划伤概率显著下降。
用作抛光粉时,片状颗粒的上下表面基本平行于被抛光材料表面,可最大可能地避免表面下损伤(subsurface damage),抛光后表面依然平滑如镜。
切割与开粗用绿碳化硅
绿碳化硅(GC)莫氏硬度 9.5,硬度介于刚玉与金刚石之间,机械强度高于刚玉,六方晶体沿晶面解理、刃口锋利。太阳能硅片、半导体硅片、石英芯片与水晶的切割与粗研磨用它效率最高;到了精研与抛光阶段,再换成 PWA 或白刚玉微粉收细。